Kioxia Corporation, Kitakami 공장에 첨단 반도체 생산 시설 기공식 개최

Kitakami, JAPAN – 메모리 솔루션 업계를 선도하는 글로벌 기업 Kioxia Corporation이 일본 이와테현 Kitakami 공장에서 첨단 반도체 생산 시설 ‘팹2(Fab2)’ 기공식을 개최했습니다. 인공지능(AI) 기반의 첨단 제조 기법을 도입한 팹2는 Kitakami 공장에서 KIOXIA가 특허를 낸 3D 플래시 메모리 ‘BiCS 플래시(BiCS FLASH™)’ 생산 확대에 기여할 것으로 기대를 모으는 생산 시설입니다. Fab2는 2023년에 완공될 예정입니다.

Fab2 시설은 첨단 에너지 절약 제조 장비와 재생 에너지원을 활용하는 내진 구조와 환경 친화적인 설계를 갖추게 될 것입니다. 또한 인력 확충에 대비해 통제 관리 및 기술 부서를 수용할 수 있도록 관리동도 건설할 예정입니다.

“메모리 분야의 리더로서 이 Fab2 시설은 Kioxia의 핵심 제조 허브가 되어 대규모 메모리 제품을 생산할 것입니다. 우리는 Fab2를 진정한 세계적 수준의 스마트 제조 시설로 만들기 위해 자동화된 시설 내 이전 및 고급 생산 제어를 도입할 계획입니다”라고 Kioxia의 사장 겸 CEO인 Nobuo Hayasaka는 말했습니다. “Fab2 생산을 Kitakami 공장 Fab1 및 Yokkaichi 공장과 지능적으로 조정하고 최적화하면, 성장하는 메모리 시장에서 시기 적절하게 기회를 포착할 수 있게 될 것입니다.”

Kioxia는 메모리로 세상을 고양시킨다는 사명 아래 1987년 NAND 플래시 메모리를 발명한 이후 지난 35년 동안 개발한 메모리 및 SSD 비즈니스의 경쟁력을 강화하기 위한 이니셔티브 개발에 집중하고 있습니다. Kioxia는 증가하는 시장 수요를 충족하는 시기 적절한 자본 투자를 통해 지속 가능한 일관된 성장을 창출하기 위해 계속 노력하고 있습니다.

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https://www.kioxia.com/en-jp/about/news/2022/20220323-1.html